超細納米膠體磨的特點：具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性；該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合；三級膠體磨由定、轉子系統所產生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

Name: 超細納米膠體磨GM2000/4
Availability: InStock

產品型號：GM2000/4

更新時間：2025-07-30

廠商性質：生產廠家

訪問量：299

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產品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

膠體磨

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產品介紹

超細納米膠體磨，高剪切超細膠體磨，超細乳化設備，進口膠體磨，對于膠體磨來說zui大的一個目的就是要達到乳化的效果，那么從設備角度來說影響乳化效果的因素有哪些呢？
1、乳化頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）
2、乳化頭的剪切速率（越大，效果越好）
3、乳化頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4、物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）。
5、循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

另外線速度是衡量設備效果的一個重要的指標

線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
–剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)
                             g 定-轉子間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
–轉子的線速率
–在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V=3.14 XD（轉子直徑）X 轉速 RPM/60

超細納米膠體磨，主要用于微乳液及超細懸浮液的生產。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大生產。適宜的溫度，壓力與粘度參數與DSSPERSSNG一樣。也符合GSP/SSP清潔標準，適合食品及醫藥生產。

上海思峻自主研發生產的超細膠體磨，具有高轉速、低能耗、低噪音、高壽命等優勢，經過SGN全體研發生產部員工的不懈努力，終于解決了SGN高剪切膠體磨的提速問題。市場上一般使用的膠體磨由于定轉子精度以及機械密封的原因，轉速zui高只能達到2910轉，而SGN研發的立式分體式膠體磨將轉速提高到9000轉，從而更好的解決了市場的需求。

超細膠體磨的特點：具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性；該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合；三級膠體磨由定、轉子系統所產生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

型號	標準流量 L/H	輸出轉速 rpm	標準線速度 m/s	馬達功率 KW	進口尺寸	出口尺寸
GM2000/4	300-1，000	9，000	23	2.2	DN25	DN15
GM2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40	DN32
GM2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50	DN50
GM2000/20	20，000	3，000	23	37	DN80	DN65
GM2000/30	40，000	1，500	23	55	DN150	DN125
GM2000/40	70，000	1，500	23	90	DN150	DN125